SiC ofnrör

Vöruskilgreining og kjarnaeiginleikar

SiC ofnrör er rörlaga háhitahylki úr hágæða kísilkarbíðkeramik sem er framleitt með hvarfgjörnun (RBSC) eða efnafræðilegri gufuútfellingu (CVD). Ólíkt hefðbundnum málmum eða kvarsefnum gefur einstök kristalbygging SiC því óbætanlega eðlis- og efnafræðilega eiginleika, sem gerir því kleift að viðhalda framúrskarandi stöðugleika í öfgafullu umhverfi.

Helstu eðliseiginleikar vörunnar:

● Þolir mjög hátt hitastig: Það getur virkað stöðugt í langan tíma við yfir 1600℃ í óvirku andrúmslofti og öruggt notkunarhitastig í oxandi andrúmslofti er 1250-1300℃, sem er langt umfram mörk kvarsröra (≤1100℃) og hitaþolinna málmblanda (≤1150℃).

● Varmaleiðni og varmastöðugleiki:

Varmaleiðnin er allt að 100-200 W/m·K, sem er meira en 100 sinnum hærri en hjá kvarsgleri. Það getur náð jafnri hitadreifingu í ofninum (halli ≤±2℃), sem útrýmir staðbundnum heitum blettum sem eru algengir í hefðbundnum ofnrörum.

Varmaþenslustuðullinn er aðeins 4.0 × 10⁻⁶/℃ (20-1000℃), ásamt mikilli teygjanleikastuðli upp á 350 GPa, til að tryggja burðarþol við miklar hitabreytingar.

● Vélrænn styrkur og slitþol: Mohs hörku ≥9 (næst á eftir demanti), beygjustyrkur 300 MPa, þjöppunarstyrkur 2000 MPa, viðnám gegn agnaeyðingu og vélrænu álagi.

● Efnafræðileg óvirkni: Þolir sterka sýrutæringu eins og HF og HCl, þolir plasmaetsun, sérstaklega hentugt fyrir þurretsunarumhverfi hálfleiðara.

Af hverju að velja Semixlab?

Kísilkarbíðofnrörin sem við bjóðum upp á uppfylla ekki aðeins kröfur um háan hita, mikla hreinleika, tæringarþol o.s.frv. í framleiðslu hálfleiðara, heldur vinna þau einnig traust viðskiptavina með sérsniðnum stuðningi, hraðri afhendingu og hágæða þjónustu eftir sölu.

Hvort sem þú ert verkfræðingur í skífuframleiðslu, rannsóknarstofafræðingur eða samþættingaraðili búnaðar, þá getum við boðið upp á áreiðanlegar, endingargóðar og hreinar lausnir fyrir háþróaða hitameðferðarferlið þitt. Velkomið að hafa samband við okkur til að hefja nýja reynslu af afkastamiklum hitameðferðum.

Samanburður á afköstum SiC ofnröra og annarra efna:

Sérstök notkun í vinnslu og framleiðslu hálfleiðara

SiC ofnrör gegnir ómissandi hlutverki í vinnslu og framleiðslu hálfleiðara og notkun þess nær yfir marga lykilferla:

● Dreifingarofn:

Virkni: Dreifingarofn er kjarninn í búnaðinum fyrir efnablöndun, oxun, glæðingu og önnur ferli í framleiðslu hálfleiðara. Sem kjarnafóðring dreifingarofnsins veitir SiC ofnrörið stöðugt, hreint, háhitaviðbragðshólf fyrir skífuna.

Kostir: Mikil hreinleiki og háhitaþol SiC tryggja lágmarks óhreinindi við dreifingarferlið og koma í veg fyrir mengun á skífunni. Framúrskarandi hitastöðugleiki tryggir heilleika ofnrörsins við upphitun og kælingu, sem og uppbyggingarstöðugleika við langvarandi háhita, til að ná nákvæmri efnablöndunarþéttni og jöfnum oxíðlagsvexti. Þetta er nauðsynlegt fyrir framleiðslu á afkastamiklum smárum og samþættum hringrásum.

● PECVD (Plasma-enhanced Chemical Vapo Deposition)/LPCVD (Low Pressure Chemical Vapo Deposition) búnaður:

Virkni: Í PECVD/LPCVD búnaði eru SiC ofnrör notuð sem hvarfklefar til að setja ýmsar þunnar filmur á yfirborð skífa, svo sem kísilloxíð, kísillnítríð o.s.frv.

Kostir: Tæringarþol SiC ofnröra gerir þeim kleift að standast rof frá ferlislofttegundum (eins og SiH4, NH3, N2O, o.s.frv.), sem tryggir stöðugleika filmuútfellingarferlisins og gæði filmulagsins. Mikil hreinleiki þeirra kemur einnig í veg fyrir að filman mengist af efni ofnrörsins, sem tryggir rafmagns- og sjónræna eiginleika filmulagsins.

● ALD-búnaður (atómlagsútfelling):

Virkni: ALD er tækni sem getur ræktað afar þunnar og einsleitar filmur. SiC ofnrör veita stöðugt og auðvelt að þrífa viðbragðsumhverfi í ALD búnaði.

Kostir: Yfirborð SiC er ekki auðvelt að aðsogast við efnahvarfsforvera. Slétt yfirborð þess og afar mikill hreinleiki stuðla að stjórnun á frumeindavexti filmu, sem tryggir einsleitni filmuþykktar og mikla endurtekningarnákvæmni.

● Háhitastigsglæðingarofn:

Virkni: Háhitaglæðing er lykilatriði til að útrýma göllum í skífum, virkja efni sem mynda efni og bæta eiginleika efnisins.

Kostir: SiC ofnrör geta veitt stöðugt umhverfi við mjög hátt hitastig til að hjálpa skífum að ljúka viðgerðum á grindum og virkjun óhreininda, og bæta rafmagnsafköst og áreiðanleika tækja. Framúrskarandi vélrænn styrkur þeirra og hitaáfallsþol tryggja einnig að ofnrörin séu óskemmd við tíðar hitastigshækkun og -lækkun.

● Önnur notkun við háan hita:

SiC ofnrör eru einnig notuð í tilraunaofnum við háan hita, sintrunarofnum fyrir sérstök efni o.s.frv. á ýmsum rannsóknar- og þróunarstigum, sem veitir áreiðanlegt umhverfi við háan hita fyrir þróun nýjustu hálfleiðaraefna.

Áhyggjur og lausnir notenda

1: Tíð viðhald búnaðar og auðvelt að sprunga kvarsrör?

Lausn: Semixlab notar keramikrör úr kísilkarbíði með mikilli þéttleika og framúrskarandi hitaáfallsþol, sem getur dregið verulega úr viðhaldstíðni og hættu á niðurtíma.

2: Hreinleikakröfur vörunnar eru miklar, hvernig á að forðast efri mengun?

Lausn: Veldu CVD SiC húðun eða þétta SSiC rör með mikilli hreinleika, losun óhreininda úr málmi með mjög litlum tilkostnaði, uppfylltu kröfur um afar hrein ferli.

3: Er erfitt að kaupa sérstakar stærðir eða tengiviðmót?

Lausn: Við styðjum sérsniðnar teikningar og vinnslu á samsettum mannvirkjum (eins og flanstengingum, þreprörum, L-laga beygjum o.s.frv.) til að mæta fjölbreyttum og flóknum kerfissamþættingarþörfum þínum.

4: Hvernig á að leysa vandamálið með langan afhendingartíma og enga ábyrgð eftir sölu?

Lausn: Sem leiðandi framleiðandi og birgir SiC íhluta í Kína hefur Semixlab eftirfarandi yfirgripsmikla kosti: stöðuga framleiðslugetu + stranga gæðaeftirlit + útflutningsumbúðir + tæknilega aðstoð, sem getur tryggt afhendingartíma og veitt langtíma samstarfstraust.

Verslanir með Semixlab vörum